我々は創業以来培ってきた真空技術により、最先端技術実験装置や大学の研究装置を設計製造しております。

また、真空技術のみならず機械要素分野においても実績を残しております。

一つのフィールドに囚われず、自分たちの技術・知識を広げていくことで次世代の産業発展に結びつけていきたいと考えております。

真空装置

創業以来培ってきた真空技術を強みに、次世代、次々世代の半導体製造装置に搭載される様々なモジュールの開発装置やスパッタリング装置、エッチング装置、液晶分野で使用する大面積の成膜装置などのR&Dをおこなっております。

世界初!!日本初!! DLC成膜装置

新たに開発したDLC成膜装置はイオン注入技術を利用しており、この装置で成膜した「導電・高耐食性DLC膜」は耐食性が高く低抵抗な特性をもつ膜として成膜できます。今まで困難だったアルミニウムにも「導電・高耐食性DLC膜」が成膜出来るようになり、 密着性も非常に高く良質な膜が成膜できます。

リークテスト装置

主にHeリークテスト装置の製造を行っております。近年業界内での検査基準が高まったことで年々需要が増えています。

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